Novi američki zakon usmeren na smanjenje tehnoloških mogućnosti Kine

Novi zakon u Vašingtonu ima za cilj da proširi postojeće restrikcije izvoza celokupne napredne opreme za proizvodnju čipova, zatvarajući regulatorne praznine koje su do sada omogućavale Kini pristup određenim visokim tehnologijama zapadnih kompanija.

Za razliku od ranijih mera koje su se fokusirale na najnaprednije "EUV" litografske mašine, novi "MATCH Act" bi obuhvatio i stariju, ali i dalje ključnu "DUV" opremu.

Sama tehnologija poznata kao "Deep Ultraviolet" (DUV, duboka ultraljubičasta litografija) predstavlja jedan od ključnih procesa u savremenoj proizvodnji čipova, i ima ključnu ulogu u globalnoj industriji čipova.

Ova metoda litografije koristi ultraljubičasto svetlo talasne dužine od 193 nanometra, kako bi se precizno prenosili obrasci elektronskih kola na silicijumske ploče (poznatije kao 'waferi').

Na ovaj način nastaju procesori, memorije, čipovi i druge mikrokontrolerske komponente koje čine osnovu svih modernih elektronskih uređaja.

Za razliku od naprednije "EUV" (Esktremna ultraljubičasta litigrafija) tehnologije, koja omogućava proizvodnju najsavremenijih čipova namenjenih smartfonima i laptopovima, "DUV" tehnologija se smatra starijom, ali i dalje izuzetno rasprostranjenom metodom proizvodnje.

Foto: Envato

Uprkos njenim tehničkim ograničenjima, "DUV" može da se koristi za proizvodnju čipova za manje složene uređaje, pa čak i relativno naprednih komponenti uz dodatne korake u proizvodnji.

Upravo zbog svoje fleksibilnosti i nižih troškova, ova tehnologija ostaje nezamenjiva u mnogim sektorima, uključujući automobilsku industriju, potrošačku elektroniku i industrijske sisteme.

Holandska kompanija ASML jedan je od vodećih proizvođača opreme za "DUV" litografiju, i ima ključnu ulogu u snabdevanju fabrika u SAD i na Tajvanu, a donedavno i u Kini.

Upravo ova tehnologija predstavlja osnovu proizvodnje čipova u Kini jer omogućava proizvodnju komponenti srednje složenosti koji se koriste u širokom spektru industrija - od automobilske do potrošačke elektronike.

Ukoliko "MATCH Act" zakon bude izglasan u Kongresu (što će se skoro sigurno desiti) i stupi na snagu, kineskim kompanijama bi bio dodatno ograničen pristup ovakvim mašinama i industrijskim sistemima, čime bi se usporio razvoj industrije čipova.

ASML se nalazi u centru ovog globalnog tehnološkog sukoba SAD i Kine zbog svoje jedinstvene pozicije na svetskom tržištu. Kao jedini proizvođač najnaprednijih litografskih mašina i ključni dobavljač za globalne gigante u proizvodnji čipova, kompanija je uvek imala veliki udeo prihoda od kupacabiz Kine.

Upozorenje stručnjaka

Procene pokazuju da je kinesko tržište činilo oko trećine ukupne prodaje u prethodnom periodu, iako se očekuje značajan pad tog udela.

Uvođenje dodatnih međunarodnih ograničenja moglo bi da dodatno smanji prihode kompanije i ograniči mogućnosti rasta na najvažnijim tržištima u Aziji koje čine Kina, Tajvan, Indija i Vijetnam.

Stručnjaci upozoravaju da bi finansijski efekti novog američkog zakona mogli biti značajni, uključujući potencijalni pad prihoda i američkih proizvođača Intel i AMD. 

Ipak, globalna potražnja za čipovima, posebno u oblasti veštačke inteligencije i data-centara, i dalje je velika, te može delimično ublažiti negativne posledice.

Predloženi "MATCH Act" predstavlja deo šire strategije Vašingtona da suštinski ograniči tehnološki napredak Kine, posebno u oblastima koje imaju potencijalnu stratešku primenu.

Ukoliko bude usvojen, takođe bi mogao i da dodatno da poremeti globalne lance snabdevanja u tehnološkom sektoru i produbi globalne političke podele između dve najveće svetske ekonomske sile.

Komentari (0)